অ-স্পর্শ ফাঁক সীল পরিচিতি
১. উপাদানের বৈশিষ্ট্য
(1) তাপমাত্রার পরিসর
প্রযোজ্য তাপমাত্রার পরিসর: -৪০°C থেকে ৬০°C (-৪০°F থেকে ১৪০°F)।
(2) হারের সীমা
কূপের উৎপাদন হার প্রতি সেকেন্ডে ৮০ মিটারে সীমিত।
(3) রাসায়নিক প্রতিরোধ
এটি সাধারণ জৈব দ্রাবক, অ্যালকোহল, এস্টার, কিটোন, অ্যালিফ্যাটিক ও অ্যারোমেটিক হাইড্রোকার্বন, গ্রিজ এবং তেল সহ বিভিন্ন রাসায়নিকের বিরুদ্ধে প্রতিরোধী। এমনকি উচ্চ তাপমাত্রাতেও ক্ষারীয় দ্রবণ এই উপাদানটির কোনো ক্ষতি করে না। অধিকন্তু, এই উপাদানটির জল শোষণ ক্ষমতা অত্যন্ত কম, যার সর্বোচ্চ পরিমাণ মাত্র ০.৮%। তবে, পলিঅক্সিমেথিলিন রেজিন দিয়ে তৈরি গ্যাপ সিল জারক, জৈব বা অজৈব অ্যাসিড (pH < 4) সিল করার জন্য ব্যবহার করা যায় না।
২. কার্যপ্রণালী
(1) কাঠামোগত গঠন
জিএমএন গ্যাপ সিলটি একটি শঙ্কু আকৃতির আবরণের উপর বসানো দুটি প্লাস্টিকের অংশ নিয়ে গঠিত, যা একটি খাঁজকাটা ফাঁক তৈরি করে। স্থাপনের সময়, একই যন্ত্র দিয়ে তৈরি ভেতরের ও বাইরের রিং প্রোফাইলের চূড়া ও খাদগুলো সংযুক্ত হওয়ার সাথে সাথে একীভূত হয়ে যায়। সিলটি একটি অবিভাজ্য একক হিসেবে সরবরাহ করা হয়।
(2) ল্যাবিরিন্থ সীল নীতি
ল্যাবিরিন্থ সিলটি একটি অভ্যন্তরীণ ল্যাবিরিন্থ জ্যামিতির উপর ভিত্তি করে ডিজাইন করা হয়েছে। এই ল্যাবিরিন্থ কাঠামোটি বিয়ারিং-এ প্রবেশ করার আগে দূষক পদার্থকে দিক পরিবর্তন করতে বাধ্য করে। শঙ্কু আকৃতির আবৃতকারী ল্যাবিরিন্থ ডিজাইনটি কেন্দ্রাতিগ বল ব্যবহার করে দূষক পদার্থের ব্যাসার্ধ বরাবর গতিকে ত্বরান্বিত করে, যার ফলে সেগুলি সিলের ফাঁক থেকে বাইরে বেরিয়ে যায়। দূষক পদার্থকে সিল ভেদ করতে হলে, কেন্দ্রাতিগ বলকে অতিক্রম করার জন্য সেগুলিকে অবশ্যই দূষকের দিকে থাকা ল্যাবিরিন্থের বড় ব্যাস থেকে সিলের "শুষ্ক" দিকের ছোট ব্যাসের দিকে ধীরে ধীরে এগোতে হবে। যে কণাগুলি প্রথম ধাপে শঙ্কু আকৃতির ল্যাবিরিন্থ ভেদ করে, সেগুলি কেন্দ্রাতিগ বলের প্রভাবে বিতাড়িত হয় এবং সিলের দূষকের দিকে থাকা পাশে ফিরে আসে। (3) সীমাবদ্ধতা গ্যাপ সিলগুলি উচ্চ তরল স্তর সামলাতে পারে না, এবং সিলের ভিতরে ও বাইরের মধ্যে চাপের পার্থক্য সম্পূর্ণরূপে ভারসাম্য করতে পারে না। এগুলি কেবল চাপ কমাতে বা নিয়ন্ত্রণ করতে পারে, সত্যিকারের সিল তৈরি করতে পারে না।
৩. প্রয়োগের সুবিধা ও সতর্কতা
(1) ধুলোরোধী প্রয়োগের ক্ষেত্রে, ধুলোময় পরিবেশে সিলিং দক্ষতা উন্নত করার জন্য ইনস্টলেশনের আগে গ্যাপ সিলে গ্রিজ যোগ করা যেতে পারে। ঘূর্ণনের সময়, সিল থেকে নির্দিষ্ট পরিমাণ গ্রিজ অপসারিত হবে।
(2) স্থাপনের স্থান: গ্যাপ সিল ইনস্টল করার সময়, অভিমুখের দিকে মনোযোগ দিন; বড় ল্যাবিরিন্থ ব্যাসটি দূষকের দিকে মুখ করে থাকবে।
(3) ক্লিয়ারেন্স প্যারামিটার সিলের অক্ষীয় এবং রেডিয়াল ক্লিয়ারেন্স প্রায় একই, উভয়ই প্রায় 0.5 মিমি, এবং তারা একে অপরকে প্রভাবিত করে।
(4) গতির সীমাবদ্ধতা GMN গ্যাপ সিলগুলি শ্যাফটের উপর প্রেস-ফিট করা হয়। কেন্দ্রাতিগ বলের প্রভাবে, ভিতরের রিংটি শ্যাফট থেকে উঠে যেতে পারে। আকারের উপর নির্ভর করে গতির সীমা পরিবর্তিত হয়।
৪. সিলিং দক্ষতা উন্নত করার পদ্ধতিসমূহ
(1) দূষক পদার্থের সরাসরি ছিটকে পড়া প্রতিরোধ করা
যদি দূষক পদার্থ সরাসরি সিলিং গ্যাপে ছিটকে পড়ার আশঙ্কা থাকে, তবে সিলের সামনে একটি ডিস্ক স্থাপন করা যেতে পারে, যা সিল এবং ডিস্কের মধ্যে পর্যাপ্ত দূরত্ব নিশ্চিত করবে এবং সিলিং গ্যাপে তরলের পশ্চাৎপ্রবাহ রোধ করবে।
(2) প্রচুর পরিমাণে ছিটকে পড়া তরল সামলানো
যখন প্রচুর পরিমাণে তরল ছিটকে পড়ে, তখন সিলের সামনে পর্যাপ্ত ফাঁকা জায়গা রাখা উচিত যাতে ছিটকে পড়া তরল অবাধে ফোঁটা ফোঁটা করে পড়তে বা প্রবাহিত হতে পারে। এছাড়াও, একটি 'Sa' ধরনের ঘূর্ণায়মান শ্যাফট এবং একটি 'Si' ধরনের ঘূর্ণায়মান হাউজিং ব্যবহার করা যেতে পারে।
(3) দ্বৈত সিলিং ফাংশন অর্জন
একই সাথে যন্ত্রপাতিতে দূষক পদার্থ এবং লুব্রিকেন্টের প্রবেশ রোধ করতে, দুটি সিলকে পিঠাপিঠি ব্যবহার করা যেতে পারে (অর্থাৎ, সিল দুটির ছোট ল্যাবিরিন্থ ব্যাসগুলো একে অপরের বিপরীতে থাকবে)।
পোস্ট করার সময়: ১৫ই মে, ২০২৬
